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干法设备应用

金沙06优惠活动申请大厅提供世界知名品牌半导体晶圆制造干法设备应用工艺技术,干法设备应用包括干法刻蚀种类较多,常见的有等离子体刻蚀(分为圆筒型和平行电极型)、反应离子刻蚀、溅射刻蚀、离子束刻蚀、反应离子束刻蚀等。相应的设备就有等离子体刻蚀机、反应离子刻蚀机、离子束刻蚀机等。

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